FIB - Focused Ion Beam Das Focused Ion Beam Verfahren nutzt einen fokussierten Ionenstrahl - zum Beispiel aus einer Gallium- (Ga-) oder Gold-Silizium- (AuSi-) Flüssigmetall- Ionenquelle. Bei niedrigem Strahlstrom kann dieser zur Abbildung, bei hohem Strahlstrom zum punktspezifischem Materialabtrag verwendet werden. Aufgrund ihrer Vielseitigkeit werden FIB-Systeme in den unterschiedlichsten Anwendungsbereichen eingesetzt. Typische Anwendungen sind unter anderem die Bearbeitung von Schaltkreisen, die TEM-Probenpräparation und die 3D-Lithografie.   FIB-Features: • Einzigartige Ionen-Optische-Säule, welche durch zwei Ionengetterpumpen differenziell gepumpt wird - für besonders niedrige Ionenstreuung • Motorisierter Blendenwechsler für hohe Reproduzierbarkeit • Beam Blanker und Faradayscher Käfig • REM-Abbildung simultan mit FIB-Ätzung oder Metalldepositionen • FIB-Steuerung voll in die Software des Elektronenmikroskops integriert • Leistungsfähige Werkzeuge mit programmierbaren Prozessparametern zur Erstellung elementarer Formen   FIB- / GIS-Software: • Vollintegriert in die REM-Steuerung • Gleichzeitiges Abbilden mit dem REM während FIB- / GIS-Ätzung oder -Auftrag (zwei unabhängige Scan-Generatoren) • Lokales FIB-Bild während Ätzung oder Auftrag • Werkzeuge für elementare Formen (Line, Rechteck, Kreis, Kreisring, Treppenstufen, Bitmap, Text etc.), programmierbare Prozessparameter • Materialdatenbank mit der Möglichkeit, eigene benutzerdefinierte Materialien hinzuzufügen • Automatisierter Start / Stopp der FIB-Gun • Softwaregesteuerte Blendenkontrolle und -zentrierung • Automatische Positionierung der GIS-Düsen sowie Temperaturkontrolle