Das Focused Ion Beam Verfahren nutzt einen fokussierten Ionenstrahl - zum Beispiel aus einer Gallium- (Ga-) oder Gold-Silizium- (AuSi-) Flüssigmetall-Ionenquelle. Bei niedrigem Strahlstrom kann dieser zur Abbildung, bei hohem Strahlstrom zum punktspezifischem Materialabtrag verwendet werden.
Aufgrund ihrer Vielseitigkeit werden FIB-Systeme in den unterschiedlichsten Anwendungsbereichen eingesetzt. Typische Anwendungen sind unter anderem die Bearbeitung von Schaltkreisen, die TEM-Probenpräparation und die 3D-Lithografie.
drei unterschiedliche FIB-Säulen zur Auswahl
Ga-Ionenquelle Canion
Ga-Ionenquelle Cobra
Au-Ionenquelle Canion C31X
Flüssigmetall-Ionenquellen der Canion C31X: Ga, Au-Si, Au-Ge, AuGeSi, CoNd, CoGe, ErNi, NiB, ErFeNiCr, GaIn, AuFeGe, BPt, AuBeSi, AuGeMn
FIB-Features:
Einzigartige Ionen-Optische-Säule, welche durch zwei Ionengetterpumpen differenziell gepumpt wird - für besonders niedrige Ionenstreuung
Motorisierter Blendenwechsler für hohe Reproduzierbarkeit
Beam Blanker und Faradayscher Käfig
REM-Abbildung simultan mit FIB-Ätzung oder Metalldepositionen
FIB-Steuerung voll in die Software des Elektronenmikroskops integriert
Leistungsfähige Werkzeuge mit programmierbaren Prozessparametern zur Erstellung elementarer Formen
FIB- / GIS-Software:
Vollintegriert in die REM-Steuerung
Gleichzeitiges Abbilden mit dem REM während FIB- / GIS-Ätzung oder -Auftrag (zwei unabhängige Scan-Generatoren)
Lokales FIB-Bild während Ätzung oder Auftrag
Werkzeuge für elementare Formen (Line, Rechteck, Kreis, Kreisring, Treppenstufen, Bitmap, Text etc.), programmierbare Prozessparameter
Materialdatenbank mit der Möglichkeit, eigene benutzerdefinierte Materialien hinzuzufügen
Automatisierter Start / Stopp der FIB-Gun
Softwaregesteuerte Blendenkontrolle und -zentrierung
Automatische Positionierung der GIS-Düsen sowie Temperaturkontrolle
