GIS - Gas Injection System Das Tescan VELA und LYRA GIS-System unterstützt bis zu fünf Gase zum Deponieren und Ätzen von spezifischen Materialien. Die Gas-Chemie bietet bei vielen Anwendungen höhere Geschwindigkeit und verbesserte Steuerung. Hierzu zählen das selektive Ätzen, mehrere Metalldepositionen und Ätzmittel, sowie die verbesserte Isolatorleistung.   GIS-Features: • Ideale Geometrie von REM- und FIB-Säule • Fünf unabhängige Gasversorgungen mit Kapillare • Dreiachsiger Mikrotisch mit automatischer Positionierung der Düsen • Automatische Temperaturkontrolle   FIB FIB + GIS 1 4 2 5 3 6 1) Ätzung: Modifizierung der Oberfläche durch „mechanischen“ Einfluss der Ionen 2) Ionen-Implantation: Einbringen von Ionen in die Probenoberfläche 3) Ionen-Deposition: Niedrigenergetische Ionen werden auf der Oberfläche deponiert 4) GIS-Ätzung: Erhöhte Geschwindigkeit beim Abtragen von Materialien 5) Selektives Ätzen: Verringerung des Abtrages z.B. durch XeF2 auf Al 6) Materialdeposition: Deposition von Materialatomen z.B. Pt, W, SiOx Standardgase für GIS*: • Wolframmetall • Platinmetall • Isolator SiOx • Erweitertes Ätzen von Diamant und PMMA (H2O) *   andere auf Anfrage, z.B. für Kohlenstoff (C) Deposition